光刻机是半导体制造中不可或缺的精密工具，负责将电路图案转移到硅片上。

光刻机是半导体制造中不可或缺的精密工具，负责将电路图案转移到硅片上。它是半导体制造流程中的关键环节，决定了芯片的集成度和性能。光刻机利用高能量的光束，将设计好的电路图案精确地投射到涂有光刻胶的硅片上，通过曝光和显影等步骤，将图案蚀刻到硅片表面，形成微小的电子元件和互连线。

光刻机的工作原理复杂，涉及到光学、电子学、材料科学等多个领域。其核心部件包括光源、光学系统、投影系统、工作台等，每个部件都需要极高的精度和稳定性。目前，最先进的光刻技术是极紫外光刻（EUV），它能够实现更小线宽的图案转移，从而制造出更小、更强大的芯片。

光刻机的制造难度极高，技术壁垒深厚，目前全球只有少数几家公司能够生产。由于其重要性，光刻机也被视为国家科技实力的象征。随着半导体技术的不断发展，对光刻机的需求也在不断增长，未来光刻机技术将朝着更高精度、更高效率、更低成本的方向发展。