asml的duv光刻机

EUV光刻机在芯片产业中的重要性对于了解此行业的人来说是不言而喻的，因为它已成为进入7nm工艺不可或缺的利器。目前，全球唯一能生产EUV光刻机的厂商是AL，其他如日本的尼康、佳能以及的上海微电子均无法生产此关键设备。

那么，问题就来了，上海微电子虽然起步晚，技术相对落后，无法生产EUV光刻机是可以理解的，但是为什么历史悠久的尼康和佳能，技术设备都不受限，却也未能成功制造EUV光刻机呢？

这其中的原因在于AL在EUV光刻机的研发和生产上设置了多重壁垒，这些壁垒使得其他厂商难以突破并顺利生产EUV光刻机。

EUV光刻机的核心技术包括曝光光源即极紫外线的产生、对准系统即如何有效收集紫外线，以及光刻技术的整合。在这两大核心领域，AL已经建立了难以逾越的优势。

在曝光光源方面，AL通过收购企业Cymer并与德国TRUMPF公司独家合作，确保了EUV光线产生技术的独家掌握，不对外提供技术给其它厂商。

在对准系统方面，AL与德国的蔡司半导体公司紧作，独家掌握着紫外线收集技术，并且目前没有其他厂商能够达到蔡司的技术水平。

这些优势使得EUV光刻技术暂时只能由AL掌握。除此之外，AL还通过成为下游主要厂商如台积电、三星、英特尔的股东，确保这些厂商只能从AL购买EUV光刻机。

AL通过掌控上游供应链技术和下游，设置了重重壁垒，使得其他光刻机厂商无法获得相关技术和市场，无法生产出EUV光刻机。这样独特的优势地位让AL在EUV光刻机市场上独领，暂时无人能敌。